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  • 檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "Analysis".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="化學機械平坦化"


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    化學機械拋光之拋光墊性能分析與平坦化加工研究
    • 機械工程系 /99/ 碩士
    • 研究生： 薛慶堂   指導教授： 陳炤彰
    • 拋光墊的物性和表面性質會強烈的影響到平坦化加工的效果和效率。除了物性和表面性質外，拋光墊的溝槽設計亦是重要的一環。良好的溝槽圖案具有增進拋光液的利用率、調整拋光液層、排除平坦化後的殘餘物和調整拋光墊…
    • 點閱：308  下載：40 

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    拋光墊之修整力量分析與銅膜晶圓化學機械拋光影響研究
    • 機械工程系 /108/ 碩士
    • 研究生： 許仕忠   指導教授： 陳炤彰
    • 在化學機械平坦化/拋光(Chemical Mechanical Planarization/ Polishing, CMP)製程中，需要鑽石修整器來維持拋光墊表面之穩定性，而拋光墊表面形貌會直接影響…
    • 點閱：230  下載：1 

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    線上拋光墊性能監測之彩色共軛焦系統取樣分析
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 陳俊臣   指導教授： 陳亮光 、 陳炤彰
    • 本研究主要為研發線上拋光墊監測系統，透過彩色共軛焦量測系統架設應用於旋轉式拋光機台，利用拋光盤面的旋轉運動以及搖臂的搖擺旋轉運動，搭配彩色共軛焦系統擷取高度資訊，進行線上監測之拋光墊表面形貌的掃描及…
    • 點閱：310  下載：3 
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